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當(dāng)前位置: 首頁出版圖書科學(xué)技術(shù)工業(yè)技術(shù)一般工業(yè)技術(shù)射頻空心陰極放電特性及其條紋不穩(wěn)定性研究

射頻空心陰極放電特性及其條紋不穩(wěn)定性研究

射頻空心陰極放電特性及其條紋不穩(wěn)定性研究

定 價(jià):¥78.00

作 者: 賀柳良
出版社: 華中科技大學(xué)出版社
叢編項(xiàng):
標(biāo) 簽: 暫缺

ISBN: 9787577208121 出版時(shí)間: 2024-05-01 包裝: 平裝
開本: 16開 頁數(shù): 字?jǐn)?shù):  

內(nèi)容簡介

  本書主要內(nèi)容包括以下幾個(gè)部分:一是射頻空心陰極放電中空心陰極效應(yīng)(hollow cathode effect,HCE)的變化規(guī)律以及放電參數(shù)的變化對HCE的影響。二是空心陰極孔外等離子體密度的增強(qiáng)機(jī)理。得到了陰極孔外的電子密度與電壓、氣壓、二次電子發(fā)射系數(shù)、孔徑、孔深、直流偏壓等參數(shù)的關(guān)系。三是通過實(shí)驗(yàn)研究射頻空心陰極放電中的發(fā)光條紋現(xiàn)象,得到了不同氣壓、功率、孔深下的條紋間距ΔS、電場以及電子密度等參數(shù)。本書的主要特點(diǎn)是具有專業(yè)性,系統(tǒng)性,獨(dú)創(chuàng)性,指導(dǎo)性這幾個(gè)特點(diǎn)。 本書非常適合作為低溫等離子體物理領(lǐng)域的研究生及科研人員的參考用書。

作者簡介

  賀柳良,女,北京建筑大學(xué)理學(xué)院副教授。自2009年開始從事低溫等離子體物理的研究,研究興趣包括射頻容性耦合等離子體源、等離子體不穩(wěn)定性。以第一作者發(fā)表科研論文數(shù)十篇,主持完成多項(xiàng)科研項(xiàng)目,申請并授權(quán)專利多項(xiàng)。

圖書目錄

第一章 緒論 
1.1 研究背景和意義 
1.2 射頻空心陰極放電的研究進(jìn)展 
1.2.1 空心陰極效應(yīng) 
1.2.2 射頻空心陰極放電中的電子加熱 
1.2.3 密度增強(qiáng)的射頻空心陰極放電研究 
1.3 氣體放電中的條紋研究 
1.3.1 氣體放電條紋的背景介紹 
1.3.2 直流輝光放電中的條紋 
1.3.3 射頻放電中的條紋 
1.3.4 其他放電系統(tǒng)中的條紋 
1.4 本書的研究內(nèi)容與安排 
第二章 PIC/MCC數(shù)值模擬方法 
2.1 概述 
2.2 PIC方法 
2.2.1 電荷分配方法 
2.2.2 泊松方程 
2.2.3 粒子推進(jìn) 
2.3 MCC模型 
2.4 碰撞后速度的確定 
2.5 本書采用的結(jié)構(gòu)模型 
2.5.1 模型描述 
2.5.2 代碼驗(yàn)證 
第三章 RF-HCD中的空心陰極效應(yīng) 
3.1 RF-HCD中HCE的一般特性 
3.1.1 存在HCE時(shí)的電子密度分布 
3.1.2 改變孔徑對HCE的影響 
3.1.3 射頻電壓的周期性變化對HCE的影響 
3.1.3.1 空心電極鞘層擴(kuò)張時(shí)的鞘層動力學(xué) 
3.1.3.2 空心電極鞘層塌縮時(shí)的鞘層動力學(xué) 
3.1.4 射頻空心陰極放電中HCE的變化規(guī)律 
3.1.4.1 空心電極鞘層擴(kuò)張時(shí)的HCE變化規(guī)律 
3.1.4.2 空心電極鞘層塌縮時(shí)的HCE變化規(guī)律 
3.2 HCE的影響因素 
3.2.1 電壓對HCE的影響 
3.2.2 二次電子發(fā)射系數(shù)對HCE的影響 
3.2.3 外加偏壓對HCE的影響 
3.2.4 電極間距對HCE的影響 
3.2.5 孔深對HCE的影響 
3.2.6 孔徑對HCE的影響 
3.2.7 氣壓對HCE的影響 
3.3 討論 
3.4 本章小結(jié) 
第四章 RF-HCD中的孔外等離子體增強(qiáng)效應(yīng) 
4.1 RF-HCD中的孔外增強(qiáng)放電 
4.2 孔外等離子體密度的影響因素 
4.2.1 電壓對孔外等離子體密度的影響 
4.2.2  二次電子發(fā)射系數(shù)對孔外等離子體密度的影響 
4.2.3 外加直流偏壓對孔外等離子體密度的影響 
4.2.4 孔深對孔外等離子體密度的影響 
4.2.5 孔徑對孔外等離子體密度的影響 
4.2.6 氣壓對孔外等離子體密度的影響 
4.3 討論 
4.4 本章小結(jié) 
第五章 RF-HCD中的條紋現(xiàn)象 
5.1 實(shí)驗(yàn)裝置 
5.2 低氣壓下RF-HCD中的條紋 
5.3  放電參數(shù)對條紋的影響 
5.3.1 功率對條紋的影響 
5.3.2 氣壓對條紋的影響 
5.3.3 管徑對條紋的影響 
5.3.4  孔深對條紋的影響 
5.4 條紋化通道的電場及其與條紋間距ΔS的關(guān)系 
5.5 RF-CCP條紋的機(jī)理 
5.6 本章小結(jié)
第六章 總結(jié)和展望 
6.1 本書主要工作和結(jié)論 
6.2本書主要的創(chuàng)新性成果 
6.3 對今后工作的展望 
參考文獻(xiàn)                                                     

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