圖解入門(mén) 半導(dǎo)體制造設(shè)備基礎(chǔ)與構(gòu)造精講（原書(shū)第3版）

　　本書(shū)以簡(jiǎn)潔明了的結(jié)構(gòu)向讀者展現(xiàn)了半導(dǎo)體制造工藝中使用的設(shè)備基礎(chǔ)和構(gòu)造。全書(shū)涵蓋了半導(dǎo)體制造設(shè)備的現(xiàn)狀以及展望，同時(shí)也對(duì)清洗和干燥設(shè)備、離子注入設(shè)備、熱處理設(shè)備、光刻設(shè)備、蝕刻設(shè)備、成膜設(shè)備、平坦化設(shè)備、監(jiān)測(cè)和分析設(shè)備、后段制程設(shè)備等逐章進(jìn)行解說(shuō)。雖然包含了很多生澀的詞匯，但難能可貴的是全書(shū)提供了豐富的圖片和表格，幫助讀者進(jìn)行理解。相信本書(shū)一定能帶領(lǐng)讀者進(jìn)入一個(gè)半導(dǎo)體制造設(shè)備的立體世界。 本書(shū)適合從事半導(dǎo)體與芯片加工、設(shè)計(jì)的從業(yè)者，以及準(zhǔn)備涉足上述領(lǐng)域的上班族和學(xué)生閱讀參考。 此版本僅限在中國(guó)大陸地區(qū)（不包括香港、澳門(mén)特別行政區(qū)及臺(tái)灣地區(qū)）銷(xiāo)售。

　　佐藤淳一，畢業(yè)于京都大學(xué)工學(xué)研究科，并獲得碩士學(xué)位。1978年開(kāi)始就職于東京電氣化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社（現(xiàn)TDK），1982年開(kāi)始就職于索尼公司。一直從事半導(dǎo)體和薄膜器件相關(guān)工藝的研究開(kāi)發(fā)工作。在此期間，參與創(chuàng)建半導(dǎo)體尖端技術(shù)公司，擔(dān)任長(zhǎng)崎大學(xué)兼職講師、行業(yè)協(xié)會(huì)委員等職位，同時(shí)也是應(yīng)用物理學(xué)會(huì)員。譯者簡(jiǎn)介 盧濤，江蘇常州人，日本中央大學(xué)工科碩士。精通各種半導(dǎo)體制造設(shè)備流程與開(kāi)發(fā)，曾參與半導(dǎo)體工廠數(shù)據(jù)的實(shí)時(shí)傳輸和設(shè)備狀態(tài)的分析。