磁場(chǎng)下復(fù)合電沉積法制備鐵：硅鍍層

定　價(jià)：￥48.00

作　者：	龍瓊著
出版社：	中國(guó)礦業(yè)大學(xué)出版社
叢編項(xiàng)：
標(biāo)　簽：	暫缺

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ISBN：	9787564648060	出版時(shí)間：	2021-01-01	包裝：	平裝
開(kāi)本：	16開(kāi)	頁(yè)數(shù)：		字?jǐn)?shù)：

內(nèi)容簡(jiǎn)介

　　本書(shū)共分為6章，主要內(nèi)容包含：緒論，F(xiàn)e-Si復(fù)合鍍層制備研究方案，無(wú)磁場(chǎng)下Fe-Si鍍層的制備，水平磁場(chǎng)下制備Fe-Si復(fù)合鍍層，豎直強(qiáng)磁場(chǎng)下制備Fe-Si復(fù)合鍍層，以及磁場(chǎng)下電化學(xué)研究電沉積鐵過(guò)程等。本書(shū)所述內(nèi)容具有前瞻性和實(shí)用性。本書(shū)可供從事高硅鋼薄帶制備、電磁冶金、表面改性、新材料制備等研究方向的人員使用，亦可供相關(guān)企業(yè)技術(shù)人員參考使用。