光電顯示原理及應(yīng)用

第1章光電顯示基礎(chǔ)

1．1顯示和光電顯示器

1．2電視的傳像原理

1．3表征圖像質(zhì)量的主要指標(biāo)

1．4顯示屏色調(diào)特性對(duì)圖像質(zhì)量的影響

1．5與顯示器相關(guān)的視覺特性

1．5．1視覺生理

1．5．2與顯示技術(shù)有關(guān)的視覺特性

1．6光度學(xué)與色度學(xué)簡(jiǎn)介

1．6．1光度學(xué)

1．6．2顏色的分類與顏色的三種屬性

1．6．3色度學(xué)中的幾個(gè)基本概念

1．6．4CIE表色體系

習(xí)題與思考

第2章陰極射線管顯示

2．1CRT的基本原理

2．2彩色CRT

2．3CRT電視的傳像原理

習(xí)題與思考

第3章液晶的性質(zhì)

3．1液晶顯示的特點(diǎn)

3．2液晶的分類

3．2．1液晶的形成原因

3．2．2液晶分子的形狀和分子結(jié)構(gòu)

3．2．3液晶的相

3．3液晶的物理特性

3．3．1液晶分子的序

3．3．2彈性系數(shù)

3．3．3黏度

3．3．4折射率

3．3．5介電常數(shù)

3．3．6離子輸運(yùn)

3．3．7光學(xué)性質(zhì)和雙折射

3．3．8閾值電壓

3．3．9小結(jié)

3．4表面定向性能

3．4．1沿面排列

3．4．2垂直排列

3．4．3液晶盒定向的種類

習(xí)題與思考







第4章常用的無(wú)源液晶顯示器

4．1扭曲向列型液晶顯示器(TNLCD)

4．1．1結(jié)構(gòu)和工作原理

4．1．2疇

4．1．3關(guān)(OFF)態(tài)的光學(xué)特性

4．1．4開(ON)態(tài)的光學(xué)特性

4．1．5TN液晶顯示器的技術(shù)參數(shù)

4．2超扭曲向列型液晶顯示器(STNLCD)

4．2．1工作原理

4．2．2光學(xué)特性

4．2．3STN系器件的優(yōu)缺點(diǎn)

4．3無(wú)源液晶顯示器的制造工藝

4．3．1TNLCD的制造工藝流程

4．3．2圖形蝕刻

4．3．3定向排列

4．3．4空盒制作

4．3．5灌注液晶和封口

4．3．6LCD制造工藝過(guò)程示意

4．4無(wú)源液晶顯示器的尋址技術(shù)

4．4．1七弧段顯示和直接尋址

4．4．2無(wú)源矩陣LCD的尋址

4．4．3無(wú)源矩陣尋址的極限

4．4．4交叉效應(yīng)

4．4．5顯示灰度

4．5無(wú)源矩陣顯示器的包裝和裝配技術(shù)

習(xí)題與思考

第5章薄膜晶體管物理、性能及其制造工藝

5．1薄膜晶體管的工作原理和結(jié)構(gòu)

5．1．1半導(dǎo)體表面物理

5．1．2絕緣柵場(chǎng)效應(yīng)晶體管

5．2氫化非晶態(tài)硅TFT的結(jié)構(gòu)和工藝

5．2．1aSi:H材料

5．2．2aSi:H TFT的結(jié)構(gòu)

5．3多晶硅TFT

5．3．1簡(jiǎn)介

5．3．2多晶硅的制備

5．3．3柵極介質(zhì)

5．3．4多晶硅TFT的結(jié)構(gòu)和制作過(guò)程

5．3．5多晶硅TFT的應(yīng)用

5．4非晶態(tài)氧化物半導(dǎo)體TFT

5．4．1AOS的材料性質(zhì)

5．4．2AOS TFT的結(jié)構(gòu)與制造

5．4．3aIGZO TFT的性能

習(xí)題與思考

第6章有源矩陣液晶顯示器

6.1簡(jiǎn)介

6．1．1AMLCD的面板結(jié)構(gòu)

6．1．2一般考慮

6．1．3影響TFTLCD顯示特性的因素

6．1．4減少交叉效應(yīng)和極性反轉(zhuǎn)技術(shù)

6．2AMLCD的驅(qū)動(dòng)器

6．3液晶顯示器性能的改進(jìn)

6．3．1LCD的寬視角技術(shù)

6．3．2縮短響應(yīng)時(shí)間

6．3．3抑制運(yùn)動(dòng)偽像

6．4液晶顯示器使用的原材料與輔助材料

6．4．1基板玻璃

6．4．2透明導(dǎo)電玻璃

6．4．3偏振片

6．4．4彩色濾色膜

6．4．5背光模塊

6．4．6輔助材料

習(xí)題與思考

第7章等離子體顯示

7.1基本結(jié)構(gòu)

7.2ACPDP的工作原理

7.3氣體放電特性

7.4PDP的制造過(guò)程

7.5總裝和老練工藝

7.6PDP顯示屏灰度的實(shí)現(xiàn)

7.7PDP顯示動(dòng)態(tài)圖像的偽輪廓現(xiàn)象

7.8PDP顯示器的優(yōu)缺點(diǎn)

習(xí)題與思考

第8章場(chǎng)致發(fā)射顯示

8.1電子場(chǎng)致發(fā)射

8.1.1場(chǎng)致發(fā)射顯示原理

8.1.2電子場(chǎng)致發(fā)射理論

8.2Spindt型場(chǎng)致發(fā)射體陣列

8.3Spindt型發(fā)射體的性能

8.4發(fā)射均勻性和穩(wěn)定性問(wèn)題

8.5在FEA中引入聚焦極

8.6FED面板的制造

8.7維持真空和封裝問(wèn)題

8.8納米Spindt型FED

8.9新材料和新技術(shù)

8.10基于碳納米管陰極的FED

8.11表面?zhèn)鲗?dǎo)電子發(fā)射顯示器

8.12結(jié)束語(yǔ)

習(xí)題與思考

第9章有機(jī)電致發(fā)光顯示

9.1簡(jiǎn)介

9.2OLED器件結(jié)構(gòu)

9.2.1單有機(jī)層結(jié)構(gòu)

9.2.2雙有機(jī)層結(jié)構(gòu)

9.2.3pin結(jié)構(gòu)

9.2.4頂發(fā)射和透明OLED

9.2.5全彩色OLED

9.3OLED的主要物理過(guò)程

9.3.1OLED的載流子注入

9.3.2OLED的載流子傳輸

9.3.3OLED的載流子復(fù)合發(fā)光

9.3.4光出射過(guò)程與提升出光效率的方法

9．4有源矩陣OLED顯示中的像素電路

9．4．1V/I變換的像素電路

9．4．2具有補(bǔ)償功能的像素電路

9.5全彩色OLED顯示器件主要制作技術(shù)

9.5.1TFT背板工藝

9.5.2OLED發(fā)光單元

9.5.3封裝和鈍化

9.6OLED性能退化機(jī)制

9.7現(xiàn)有問(wèn)題和未來(lái)展望

習(xí)題與思考

第10章發(fā)光二極管顯示

10.1簡(jiǎn)介

10.2LED的原理和制造

10.2.1半導(dǎo)體的光學(xué)性質(zhì)

10.2.2LED的pn結(jié)和基板結(jié)構(gòu)

10.3LED的性能

10.3.1內(nèi)量子效率

10.3.2光提取效率

10.3.3LED的參數(shù)

10.3.4下轉(zhuǎn)換的白光LED

10.4LED顯示屏

10.4.1LED顯示屏的技術(shù)指標(biāo)

10.4.2LED的驅(qū)動(dòng)

10.4.3實(shí)現(xiàn)灰度和亮度的調(diào)整

10.4.4LED顯示屏的基本構(gòu)成

10.4.5LED全彩色顯示屏的關(guān)鍵技術(shù)

習(xí)題與思考

第11章電致發(fā)光顯示

11.1交流粉末電致發(fā)光

11.1.1背景

11.1.2AC粉末EL器件的結(jié)構(gòu)和材料

11.1.3AC粉末EL器件的發(fā)光機(jī)理

11.2交流薄膜電致發(fā)光

11.2.1背景

11.2.2薄膜電致發(fā)光的工作原理

11.2.3厚膜電致發(fā)光顯示器

11.3結(jié)論

習(xí)題與思考

第12章大屏幕投影顯示

12.1大屏幕顯示的特點(diǎn)和發(fā)展歷史

12.1.1大屏幕顯示的特點(diǎn)

12.1.2大屏幕投影顯示的歷史

12.2現(xiàn)代投影顯示系統(tǒng)

12.2.1液晶投影顯示

12.2.2DLP投影顯示

12.2.3LCoS投影顯示（反射型液晶投影儀）

12.2.4常見投影顯示技術(shù)比較

12.3激光投影顯示

12.3.1面陣空間光調(diào)制器的投影成像方式

12.3.2基于掃描的激光投影顯示

12.3.3激光投影顯示的優(yōu)缺點(diǎn)

習(xí)題與思考

第13章觸摸屏

13.1觸摸屏或觸摸系統(tǒng)簡(jiǎn)介

13.2模擬和數(shù)字電阻式觸摸屏

13.2.1四線電阻觸摸屏

13.2.2八線電阻觸摸屏

13.2.3五線電阻觸摸屏

13.3電容式觸摸屏

13.3.1表面電容式的觸摸屏

13.3.2投射電容式的觸摸屏

13.4光學(xué)觸摸屏

13.4.1掃描紅外觸摸屏

13.4.2基于攝像機(jī)的光學(xué)觸摸屏

13.5表面聲波觸摸屏

13.6在單元內(nèi)

13.7手機(jī)觸摸屏概況

習(xí)題與思考

縮略語(yǔ)

參考文獻(xiàn)