激光等離子體極紫外光刻光源

　　激光等離子體極紫外光刻光源是下一代光刻的核心技術(shù)之一，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體光電產(chǎn)業(yè)并對(duì)集成芯片向微型化和智能化發(fā)展具有極大的促進(jìn)作用。《激光等離子體極紫外光刻光源》首先介紹了用于光刻的激光等離子體極紫外光源的國(guó)內(nèi)外發(fā)展現(xiàn)狀，并系統(tǒng)地闡述了激光等離子體光源的相關(guān)理論。其次介紹了用于6.7nm光源探測(cè)的平像場(chǎng)光柵光譜儀的設(shè)計(jì)、搭建及標(biāo)定。最后，詳細(xì)介紹了工作波長(zhǎng)6.7nm極紫外光源離子碎屑特性及其阻擋的實(shí)驗(yàn)研究結(jié)果。《激光等離子體極紫外光刻光源》可作為光學(xué)、微電子等專業(yè)本科生的參考教材，也可作為激光與物質(zhì)相互作用、激光等離子體、極紫外光刻技術(shù)、極紫外光輻射電子光譜術(shù)等領(lǐng)域的研究生、專業(yè)研究人員以及相關(guān)技術(shù)人員的參考用書。

暫缺《激光等離子體極紫外光刻光源》作者簡(jiǎn)介