實(shí)用X射線光譜分析

第一篇 X射線光譜分析基礎(chǔ)
第一章 X射線物理學(xué)基礎(chǔ)
§1.1 X射線光譜分析的發(fā)展簡史
§1.2 X射線
§1.3 X射線的產(chǎn)生
§1.4 X射線譜
§1.5 X射線與物質(zhì)的相互作用
§1.6 X射線熒光強(qiáng)度的理論計算
參考文獻(xiàn)
第二章 X射線光譜分析概述
§2.1 術(shù)語
§2.2 X射線光譜分析的基本原理與特點(diǎn)
§2.3 X射線光譜儀的分類
§2.4 X射線光譜分析的現(xiàn)狀與發(fā)展
參考文獻(xiàn)
第三章 特征X射線的激發(fā)
§3.1 概述
§3.2 X射線管激發(fā)
§3.3 放射源激發(fā)
§3.4 加速粒子激發(fā)
§3.5 不同激發(fā)方式的性能比較
參考文獻(xiàn)
第二篇 X射線熒光光譜分析
第四章 波長色散X射線熒光光譜分析
§4.1 概述
§4.2 X射線的波長色散(晶體分光)
§4.3 探測
§4.4 測量
§4.5 譜儀性能測試
§4.6 波長色散X射線熒光光譜儀現(xiàn)狀及其應(yīng)用
參考文獻(xiàn)
第五章 能量色散X射線熒光光譜分析
§5.1 概述
§5.2 譜儀基本結(jié)構(gòu)
§5.3 濾波選擇
§5.4 二次激發(fā)
§5.5 探測器
§5.6 能譜采集
§5.7 WDXRF譜儀與EDXRF譜儀的區(qū)別
§5.8 譜儀性能測試
§5.9 能量色散X射線熒光光譜儀的現(xiàn)狀及其應(yīng)用
參考文獻(xiàn)
第六章 樣品制備
§6.1 概述
§6.2 固體塊樣的制備
§6.3 粉末樣的制備
§6.4 熔融樣的制備
§6.5 溶液樣的制備
§6.6 特殊樣品的制備
參考文獻(xiàn)
第七章 定性分析和半定量分析
§7.1 概述
§7.2 定性分析
§7.3 半定量分析
參考文獻(xiàn)
第八章 定量分析
§8.1 概述
§8.2 外標(biāo)法
§8.3 內(nèi)標(biāo)法
§8.4 增量法
§8.5 數(shù)學(xué)校正法
§8.6 波長色散譜儀定量分析條件的設(shè)定
§8.7 能量色散譜儀定量分析條件的設(shè)定
§8.8 X射線熒光光譜定量分析中的不確定度
參考文獻(xiàn)
第三篇 其它X射線光譜分析
第九章 全反射X射線熒光光譜分析
§9.1 概述
§9.2 TXRF基本原理和裝置
§9.3 全反射X射線熒光光譜儀
§9.4 全反射X射線熒光分析的基本特點(diǎn)
§9.5 全反射X射線熒光光譜分析的應(yīng)用與展望
參考文獻(xiàn)
第十章 電子探針顯微分析
§10.1 概述
§10.2 儀器構(gòu)造與工作原理
§10.3 電子探針顯微分析儀的分析方法及應(yīng)用
§10.4 電子探針顯微分析儀性能測試
參考文獻(xiàn)
第十一章 質(zhì)子激發(fā)X射線光譜分析
§11.1 概述
§11.2 質(zhì)子激發(fā)X射線光譜分析裝置
§11.3 質(zhì)子靜電加速器
§11.4 PIXE真空分析靶室
§11.5 PIXE非真空分析裝置
§11.6 PIXE分析樣品制備
參考文獻(xiàn)
附錄
附錄1 K殼層臨界及激發(fā)能和K系特征X射線能量
附錄2 K殼層I臨界吸收限和K系特征X射線波長
附錄3 K系特征X射線相對強(qiáng)度和K殼層熒光產(chǎn)額
附錄4 L殼層臨界激發(fā)能和L系特征X射線能量
附錄5 L殼層臨界吸收限和L系特征X射線波長
附錄6 L系特征X射線相對強(qiáng)度和殼層平均熒光產(chǎn)額
附錄7 M系特征X射線波長
附錄8 M系特征X射線能量