薄膜材料與薄膜技術(shù)

定　價：￥38.00

作　者：	鄭偉濤等編著
出版社：	化學(xué)工業(yè)出版社
叢編項(xiàng)：
標(biāo)　簽：	合成樹脂與塑料工業(yè) 化學(xué)工業(yè) 科技

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ISBN：	9787502549381	出版時間：	2004-01-01	包裝：	平裝
開本：	23cm	頁數(shù)：	148	字?jǐn)?shù)：

內(nèi)容簡介

　　本書系統(tǒng)闡述了薄膜材料與薄膜技術(shù)的基本理論和基本知識，重點(diǎn)介紹了薄膜材料的真空制備技術(shù)、薄膜的化學(xué)和物理沉積方法、薄膜的形成和生長原理、薄膜的表征、對目前廣泛研究和應(yīng)用的幾種主要薄膜材料進(jìn)行了介紹、評論和展望。本書適合于從事材料研究的科研技術(shù)人員、相關(guān)專業(yè)的大專院校師生閱讀和參考，同時也可作為研究生教材使用。

作者簡介

暫缺《薄膜材料與薄膜技術(shù)》作者簡介

圖書目錄

第一章真空技術(shù)基礎(chǔ)
第一節(jié) 真空的基本知識
第二節(jié) 真空的獲得
第三節(jié) 真空的測量
第二章薄膜制備的化學(xué)方法
第一節(jié) 熱生長
第二節(jié) 化學(xué)氣相沉積
第三節(jié) 電鍍
第四節(jié) 化學(xué)鍍
第五節(jié) 陽極反應(yīng)沉積法
第六節(jié) LB技術(shù)
第三章薄膜制備的物理方法
第一節(jié) 真空蒸發(fā)
第二節(jié) 濺射
第三節(jié) 離子束和離子助
第四節(jié) 處延膜沉積技術(shù)
第四章薄膜的形成與生長
第一節(jié) 形核
第二節(jié) 生長過程
第三節(jié) 薄膜的生長模式
第四節(jié) 遠(yuǎn)離平衡態(tài)薄膜生長的研究
第五章薄膜表征
第一節(jié) 薄膜厚度控制及測量
第二節(jié) 組分表征
第三節(jié) 薄膜的結(jié)構(gòu)表征
第四節(jié) 原子化學(xué)鍵合表征
第五節(jié) 薄膜應(yīng)力表征
第六章薄膜材料
第一節(jié) 超硬薄膜材料
第二節(jié) 智能薄膜材料
第三節(jié) 納米薄膜材料
第四節(jié) 三族元素氮化物（Ⅲ-N）薄膜材料
第五節(jié) 磁性氮化鐵薄膜材料
第六節(jié) 巨磁阻錳氧化物薄膜材料